財聯(lián)社9月14日訊（記者 王碧微）光刻機(jī)實現(xiàn)突破？今日，蘇大維格(300331.SZ)一則自稱“已實現(xiàn)光刻機(jī)銷售”的互動平臺回復(fù)引爆市場，公司股價午后短時間內(nèi)躥升至漲停。不過，多位業(yè)內(nèi)受訪人士均表示，此光刻非彼光刻。一直以來，蘇大維格主要生產(chǎn)的是激光直寫光刻機(jī)，而非制造芯片用的掩膜光刻機(jī)。

蘇大維格今天下午在投資者平臺表示：“公司光刻機(jī)已實現(xiàn)向國內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售，并已實現(xiàn)向日本、韓國、以色列等國家的出口；同時，公司向國內(nèi)相關(guān)芯片光刻機(jī)廠商提供了定位光柵尺部件?！痹撓l(fā)出后，不少投資者直呼蘇大維格是“國產(chǎn)之光”，市場情緒激烈。

不過，受訪的多位業(yè)內(nèi)人士均表示，蘇大維格生產(chǎn)的光刻機(jī)并非大眾所理解的芯片制造用光刻機(jī)。

CINNO Research研究總監(jiān)劉雨實向記者介紹，“蘇大維格的光刻機(jī)是指激光直寫光刻機(jī)，與傳統(tǒng)掩膜光刻相比，激光直寫精度較差但成本也較低，多用于封裝等領(lǐng)域，具有較高的靈活性?！?/p>

蘇大維格半年度財報顯示，公司的高端智能裝備包括直寫光刻、3D光刻、投影/掃描光刻、納米壓印光刻設(shè)備等，并未提及芯片生產(chǎn)用的掩模光刻產(chǎn)品。

據(jù)中航證券研報，泛半導(dǎo)體光刻技術(shù)可分為直寫光刻和掩模光刻。其中，直寫光刻精度較低，多用于IC后道封裝、低世代線平板顯示、PCB等領(lǐng)域；掩模光刻目前主流形式為投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工藝，后道先進(jìn)封裝，以及中高世代線的FPD生產(chǎn)。目前，掩模光刻技術(shù)主要由ASML等海外廠商掌握，而直寫光刻在國內(nèi)還有芯碁微裝(688630.SH)等多家公司突破。

記者留意到，蘇大維格2023半年報中曾提及，“公司光刻設(shè)備已向國內(nèi)某芯片龍頭企業(yè)實現(xiàn)銷售，并向國內(nèi)廠商提供應(yīng)用于IC芯片投影式光刻機(jī)的核心部件定位光柵尺產(chǎn)品”，與今天在投資者平臺的回復(fù)內(nèi)容類似。不過，今天公司在互動平臺的表述，“光刻設(shè)備”一詞變成了“光刻機(jī)”，引發(fā)市場遐想。

半年報表述

今天投資者平臺表述

“我們業(yè)內(nèi)一般稱直寫光刻設(shè)備為光雕機(jī)，用‘光刻機(jī)’稱呼直寫光刻設(shè)備是非常不專業(yè)的行為，不排除是有意為之?！?/strong>一位業(yè)內(nèi)人士向記者這樣表示道。