半導體光掩膜供不應求 國內掩膜版行業(yè)景氣有望持續(xù)
①消息人士稱,韓國光掩膜制造商Toppan,、Photronics和Dai Nippon Printing工廠開工率均維持在100%,一些中國芯片公司甚至支付額外費用以縮短交貨時間。 ②民生證券方競研報認為,我國半導體掩膜版市場規(guī)模逐步擴大,國內掩膜版行業(yè)的景氣度有望持續(xù)旺盛。
半導體光掩膜短缺仍在繼續(xù)。消息人士稱,韓國光掩膜制造商Toppan,、Photronics和Dai Nippon Printing工廠開工率均維持在100%,一些中國芯片公司甚至支付額外費用以縮短交貨時間。
掩模版是光刻工藝中的關鍵耗材,對于光刻工藝的重要性不弱于光刻機、光刻膠。在集成電路領域,光掩模的功能類似于傳統(tǒng)相機的“底片”,在光刻機、光刻膠的配合下,將光掩模上已設計好的圖案,通過曝光和顯影等工序轉移到襯底的光刻膠上,進行圖像復制,從而實現批量生產。民生證券方競研報認為,隨著我國半導體產業(yè)占全球比重的逐步提升,我國半導體掩膜版市場規(guī)模也逐步擴大,國內掩膜版行業(yè)的景氣度有望持續(xù)旺盛,廠商有望迎來業(yè)績的高速增長。
據財聯社主題庫顯示,相關上市公司中:
芯碁微裝泛半導體直寫光刻設備LDW系列光刻精度能夠達到最小線寬350nm-500nm,能夠滿足線寬90nm-130nm制程節(jié)點的掩膜版制版需求。
清溢光電已實現180nm工藝節(jié)點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證及量產,同步開展130nm-65nm半導體芯片掩膜版的工藝研發(fā)和28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃。
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