2024年04月12日 08:38:29
國(guó)內(nèi)薄膜鈮酸鋰光子芯片產(chǎn)業(yè)化取得重要進(jìn)展
《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》12日訊,4月11日上午,南智先進(jìn)光電集成技術(shù)研究院(簡(jiǎn)稱“南智光電”)鈮酸鋰光子芯片產(chǎn)線啟動(dòng)儀式在新區(qū)舉行。南京江北新區(qū)消息顯示,本次啟用的產(chǎn)線,具備了光刻、刻蝕、鍍膜、研拋、濕法等系列核心技術(shù)工藝。這意味著國(guó)內(nèi)薄膜鈮酸鋰光子芯片產(chǎn)業(yè)化取得重要進(jìn)展。產(chǎn)線配備3.5億元規(guī)模設(shè)備、5000平方米超凈間,覆蓋了整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的核心工藝,月產(chǎn)能一千片晶圓。
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